picture_4

Проектирование

Проектирование

Проектирование дизайна фотошаблона включает в себя преобразование и компоновку исходных данных Заказчика в соответствии с техническими требованиями, а также добавление служебных, тестовых и других специальных элементов.

В процессе проектирования дизайна фотошаблонов проводится проверка исходной информации в соответствии с правилами проектирования, проводится фрагментация данных, при необходимости применяется полнофункциональная система коррекции эффектов оптической близости, генерируется выходная информация. На окончательном этапе полученные данные подвергаются преобразованию (конвертации) в управляющую информацию для генераторов изображения.

Необходимые операции с данными, такие как: масштабирование, булевы операции, фазовая коррекция, геометрическая коррекция, задание технологических припусков и другие, выполняются при помощи программно-аппаратного комплекса на базе современных САПР, что позволяет производить обработку входных данных в форматах DXF, GDSII, OASIS.

Изготовление бинарных фотошаблонов уровня до 180 нм
Изготовление бинарных фотошаблонов уровня до 180 нм
Использование современного оборудования на всех этапах производства
Использование современного оборудования на всех этапах производства



Наши партнеры
Vistec MIET КБТЭМ-ОМО

ЦКППИФ
© 2008-2015  
e-mail Контакты
+7 (499) 720-69-67